投资者发表意见：光刻胶检测设备需要光刻机、CDSEM、涂胶显影机 、亮场缺陷扫...

入股者发言：

处理过程测定电子设备需要光刻机、CDSEM、涂胶显影机 、亮场弱点扫描明为、弱点分析电子设备、 气体颗粒明为，请问贵司现以外若无哪样？

董秘回答(南大光电SZ300346)：

感谢您的关注！以外主要的测定电子设备如光刻机已经安装并投入使用，只能满足对28nm—90nm工艺节点的处理过程进行测定。

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